[发明专利]卤素含氧酸溶液的制造方法在审
申请号: | 202180017960.7 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN115243998A | 公开(公告)日: | 2022-10-25 |
发明(设计)人: | 根岸贵幸;下田享史;斋藤聪洋;松田直树;森胁正之 | 申请(专利权)人: | 株式会社德山 |
主分类号: | C01B11/04 | 分类号: | C01B11/04;C07C209/68;C07C211/63;C11D7/08;C11D7/18;H01L21/304 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本山口*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明的目的在于,关于通过使有机碱溶液和卤素反应来进行的卤素含氧酸溶液的制造,提供在工业上有利的制造方法和制造装置。本发明涉及卤素含氧酸的制造方法以及卤素含氧酸的制造装置,所述卤素含氧酸的制造方法包括连续供给有机碱溶液和卤素并进行混合,连续取出产生的包含卤素含氧酸的反应液的工序,所述卤素含氧酸的制造装置具备:反应器、向该反应器进行供给的有机碱溶液供给单元和卤素供给单元、以及用于将反应液从该反应器取出至外部的反应液取出单元,分别利用有机碱溶液供给单元和卤素供给单元向反应器连续供给有机碱溶液和卤素并进行混合,由此以反应液的形式生成包含卤素含氧酸的溶液,利用反应液取出单元连续取出反应液。 | ||
搜索关键词: | 卤素 含氧酸 溶液 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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