[发明专利]纳米材料合成用独立前体及利用其的纳米材料合成装置在审
| 申请号： | 202180002496.4 | 申请日： | 2021-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN114829297A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 金在愚;朴恩光;金在勋;金知成;郑泰贤 | 申请（专利权）人： | 奈尔技术公司 |
| 主分类号： | C01B21/064 | 分类号： | C01B21/064 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 卢英日;张青 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以有效地大量生产纳米材料的纳米材料合成用独立前体及利用其的纳米材料合成装置。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 材料 合成 独立 利用 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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