[实用新型]高耐污高光膜及薄膜生产设备有效

专利信息
申请号: 202122600376.4 申请日: 2021-10-27
公开(公告)号: CN216506856U 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 卫玉春;王峰岩;李超;蒋宇 申请(专利权)人: 海宁帝龙永孚新材料有限公司
主分类号: B29D7/01 分类号: B29D7/01
代理公司: 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 代理人: 金亚丁
地址: 314407 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了高耐污高光膜及薄膜生产设备,高耐污高光膜包括:基材层、UV涂层一、UV涂层二,所述基材层一侧与UV涂层一连接,所述UV涂层一远离基材层的一侧与UV涂层二连接,所述基材层与UV涂层一连接的一侧设有高光压纹面,所述基材层为PETG材质。本实用新型的有益效果为:1、本高耐污高光膜拥有高耐划性能与高耐污性能,耐划等级可以达到3H‑4H,且拥有高光效果;2、本薄膜生产设备可以将基材层镜面化,然后涂覆两层UV涂层。
搜索关键词: 高耐污高光膜 薄膜 生产 设备
【主权项】:
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