[实用新型]一种陶瓷可调节均匀上釉装置有效
| 申请号： | 202122520827.3 | 申请日： | 2021-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN215969329U | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 李冬娇;罗细华;屈丽思 | 申请（专利权）人： | 景德镇恩达陶瓷有限公司 |
| 主分类号： | B28B11/04 | 分类号： | B28B11/04 |
| 代理公司： | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人： | 桑耀 |
| 地址： | 333400 江西省景*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种陶瓷可调节均匀上釉装置，包括上釉箱，所述上釉箱右侧设置有喷釉机构，所述上釉箱底部中间设置有电机箱，所述电机箱内设置有电机，所述电机输出轴顶端贯穿上釉箱设置有放置机构，所述上釉箱内腔顶面设置有清理机构，所述上釉箱前侧对称铰接有箱门，喷釉机构包括储釉箱、导管、液压泵与喷头，所述储釉箱设置于上釉箱右侧底部，所述喷头设置于上釉箱内腔右壁，所述导管连接于喷头与储釉箱之间，本实用新型结构简单，设计合理，通过稳定组件，能够使放置板更加的稳定，从而在陶瓷转动时会更加的稳定，使陶瓷的上釉会更均匀，并且通过清理机构，能够更好的对上釉箱内腔进行清理，从而保证上釉箱内的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 陶瓷 调节 均匀 上釉 装置 | ||
【主权项】：
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