[实用新型]一种单纵模F-P激光器的沟槽结构有效

专利信息
申请号: 202122326283.7 申请日: 2021-09-24
公开(公告)号: CN215896963U 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 姚中辉;张子旸;陈红梅;蒋成;王洪培 申请(专利权)人: 青岛翼晨镭硕科技有限公司
主分类号: H01S5/065 分类号: H01S5/065;H01S5/24;H01S5/22
代理公司: 青岛申达知识产权代理有限公司 37243 代理人: 蒋遥明
地址: 266000 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及一种单纵模F‑P激光器的沟槽结构,包括基片以及脊型波导,所述脊型波导位于所述基片的顶部,所述基片中设置有沟槽,所述沟槽设置于所述脊型波导的正下方,所述沟槽的排布方向与所述脊型波导延伸的方向倾斜布置。沟槽位于基片中,能够在基片各层的外延生长过程中采用紫外光刻机光刻形成沟槽,相较于直接在脊型波导上刻蚀,无需增加刻蚀深度,简化了工艺而且提高了成品率;而且掩埋结构的沟槽制备在更加接近有源区的位置,极大的提高了耦合效率,有利于实现更优异的选模特性。
搜索关键词: 一种 单纵模 激光器 沟槽 结构
【主权项】:
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