[实用新型]一种硬掩模

摘要

本实用新型公开了一种硬掩模，包括衬底和图形设置层，衬底的表面形成有第一绝缘层，衬底和第一绝缘层上形成有贯穿衬底和第一绝缘层的第一图形线孔，图形设置层形成于第一绝缘层的远离所述衬底的表面上，且图形设置层上形成有贯穿的第二图形线孔，第二图形线孔与第一图形线孔连通，第二图形线孔的侧壁上形成有线宽限制层，第二图形线孔内的线宽限制层限定目标图形的线宽。线宽限制层，能够缩小第二图形线孔的线宽，在采用光刻机光刻时，能够缩小光刻图形的线宽，从而满足芯片设计的需要，摆脱对先进的光刻机的依赖，节省大量设备成本。