[实用新型]一种带有ECL试剂处理的印迹膜X光曝光盒

摘要

本实用新型公开了一种带有ECL试剂处理的印迹膜X光曝光盒，包括曝光盒：所述曝光盒的内腔设置有压制机构，所述压制机构包括设置在曝光盒内腔且可滑动的存放板，所述存放板顶部的四周均固定连接有护边，所述曝光盒内腔的两侧均开设有供存放板滑动的矩形滑槽，所述曝光盒顶部的后侧设置有可转动的顶盖，所述存放板顶部的前侧开设与顶盖相卡合的矩形凹槽，所述曝光盒的正表面设置有限位机构。在本实用新型中，通过将印迹膜放置在曝光盒的内腔进行一定时间进行反应，在此同时通过压制机构和压边框的设置，对印迹膜进行限位固定，避免其自行移位，即可达到实验稳定、便捷和实验结果准确的目的。