[实用新型]一种用于氧化沟缺氧区的杂质去除结构有效

专利信息
申请号: 202120953140.6 申请日: 2021-05-06
公开(公告)号: CN214654344U 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 赵俊;李淑娟;冯鑫 申请(专利权)人: 公安县佳源水务有限公司
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F3/30
代理公司: 武汉经世知识产权代理事务所(普通合伙) 42254 代理人: 邱雨家
地址: 434000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型涉及污水治理技术领域,公开了一种用于氧化沟缺氧区的杂质去除结构,包括厌氧池壁、缺氧池壁以及位于所述厌氧池壁和所述缺氧池壁上方的过道,所述过道上设置有两条连接缆,所述连接缆的顶部均与所述过道连接,两条所述连接缆的底部之间水平设置有阻挡杆,所述阻挡杆的两端分别抵触于所述厌氧池壁的外壁以及所述缺氧池壁的内壁。本实用新型使得使用效果更佳。
搜索关键词: 一种 用于 氧化 缺氧 杂质 去除 结构
【主权项】:
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