[实用新型]一种流体抛光装置有效
| 申请号： | 202120530235.7 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN214559962U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 刘柠铨;刘顿 | 申请（专利权）人： | 成都泽雅科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/10 | 分类号： | B24B31/10;B24B31/12 |
| 代理公司： | 成都中亚专利代理有限公司 51126 | 代理人： | 周长福 |
| 地址： | 611700 四川省成都市郫*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种流体抛光装置，包括架体，工件载体，固定安装于架体上端，具有容纳被加工工件和抛光流体的上开口的容纳腔；灌注件，固定安装于架体并位于容纳腔开口端，向容纳腔中高压加注抛光流体；以及回收件，安装于架体并连接于灌注件抛光流体出口端；本实用新型设计合理，结构简单，使用方便，用于工件的抛光，合理的设计工件载体，该工件载体开设有容纳腔为抛光流体和被加工工件听过相互摩擦的场所，利用高压进入的抛光流体让抛光效率更高，效果更好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流体 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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