[实用新型]一种CPA激光系统的激光聚焦调试和打靶的调节系统有效
| 申请号： | 202120309767.8 | 申请日： | 2021-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN213989544U | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 李汉明 | 申请（专利权）人： | 北京明睿光谱科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/00 | 分类号： | H01S3/00 |
| 代理公司： | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 100083 北京市海淀区清华东路*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种CPA激光系统的激光聚焦调试和打靶的调节系统。本实用新型采用衰减系数非连续可调的第一衰减系统和衰减系数连续可调的第二衰减系统，在激光聚焦调试阶段，使得CCD相机上的光斑强度为CCD相机的最高数值的30％～70％，在打靶阶段，第一衰减系统中所有的镜片全部设置成高透过率镜片，第二衰减系统的透过率设置为最高；将第一衰减系统放置在第二衰减系统之前，是由于通常反射镜片或透射镜片的损伤阈值更高一些，有利于减少第二衰减系统中波片暴露在强光下的时间，从而保护第二衰减系统的波片；第一衰减系统中通过更换相同物理尺寸以及相同高质量面型的镜片，可以将对激光波前影响降低到最低，从而尽可能保证在镜片更换前后的聚焦情况相同。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cpa 激光 系统 聚焦 调试 打靶 调节 | ||
【主权项】：
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