[实用新型]一种热敏印版曝光机构保护装置及热敏直接制版机有效
| 申请号： | 202120041509.6 | 申请日： | 2021-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN214324522U | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 苏春让;王洁;王科 | 申请（专利权）人： | 中煤航测遥感集团有限公司;中煤地西安地图制印有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/055 | 分类号： | B41C1/055;B08B15/04;B01D46/00;B01D46/10 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 张洋 |
| 地址： | 710199 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种热敏印版曝光机构保护装置及热敏直接制版机，涉及一种热敏印刷制版领域，热敏印版曝光机构保护装置包括光源，光学模组以及除尘机构；光学模组设置于光源的出光侧，用于对热敏印版曝光，除尘机构设置于光学模组的一侧。本实用新型的目的在于提供一种热敏印版曝光机构保护装置及热敏直接制版机，其能够有效清除热敏直接制版机光学模组曝光时热敏印版产生的粉尘，有效减少光学模组的故障率，提高热敏直接制版机的光学模组的稳定性，提高热敏直接制版机的工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 热敏 曝光 机构 保护装置 直接 制版机 | ||
【主权项】：
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