[实用新型]一种大尺寸曲面抛光机有效

专利信息
申请号: 202120007231.0 申请日: 2021-01-04
公开(公告)号: CN214162554U 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 高令;李叶明;谭志强;李伟 申请(专利权)人: 深圳西可实业有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/02;B24B41/06
代理公司: 深圳信科专利代理事务所(普通合伙) 44500 代理人: 吴军
地址: 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道浪*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种大尺寸曲面抛光机,包括:上机架、下机架、抛光装置和抛光台;所述上机架与所述下机架固定连接;所述抛光台可滑动的设置在所述下机架上;所述抛光装置包括Z轴、升降装置、抛光驱动装置、若干抛光盘和若干X轴;所述X轴固定设置在所述上机架上,所述升降装置可滑动的设置在所述X轴上;所述Z轴设置在所述升降装置上,所述抛光驱动装置可滑动的设置在所述Z轴上。本实用新型提供的大尺寸曲面抛光机,抛光装置能够相对X轴、Z轴进行滑动,工作台能够相对Y轴进行滑动,工作台能够根据抛光工件的大小进行选择,适合大尺寸工件的抛光,通过三轴联动打乱抛光轨迹,提高抛光效果,降低抛光时间,降低抛光成本,提高良品率。
搜索关键词: 一种 尺寸 曲面 抛光机
【主权项】:
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