[发明专利]一种原子级可调二维MoSSe纳米片及其制备和应用在审

专利信息
申请号: 202111664554.8 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114314527A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 熊小山;张峻;陈超 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C01B19/00 分类号: C01B19/00;C02F1/30;B01J27/057;B01J35/08;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 朱亚冠
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种原子级可调二维MoSSe纳米片及其制备和应用。本发明方法将(NH4)2MoO4·2H2O、Na2SeO3、硫代乙酰胺、水合肼、十六烷基苯磺酸钠、乙醇和水混合成前驱液,置于水热反应釜中进行水热反应得到。通过将所述制备方案制备得到的原子级可调二维MoSSe纳米片作为光催化剂在光催化降解染料(亚甲基蓝)、抗生素(左氧氟沙星)和在光电化学中光电流响应中应用,以评估其催化性能。与常规MoS2相比,所述MoSSe纳米片的光催化降解亚甲基蓝的降解率、光催化降解左氧氟沙星的降解率和光电流密度分别相对提升了1240%、660%和1726%。本发明方法工艺简单、易于控制、生产效率高。
搜索关键词: 一种 原子 可调 二维 mosse 纳米 及其 制备 应用
【主权项】:
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