[发明专利]一种原子级可调二维MoSSe纳米片及其制备和应用在审
申请号: | 202111664554.8 | 申请日: | 2021-12-31 |
公开(公告)号: | CN114314527A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 熊小山;张峻;陈超 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | C01B19/00 | 分类号: | C01B19/00;C02F1/30;B01J27/057;B01J35/08;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38 |
代理公司: | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人: | 朱亚冠 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明涉及一种原子级可调二维MoSSe纳米片及其制备和应用。本发明方法将(NH |
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搜索关键词: | 一种 原子 可调 二维 mosse 纳米 及其 制备 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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