[发明专利]低残留膜进样装置在审
| 申请号： | 202111575072.5 | 申请日： | 2021-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN114324553A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 庞骏德;戴梦杰;姚如娇;沈辉;景加荣;肖育;何洋;蒋公羽 | 申请（专利权）人： | 上海裕达实业有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/626 | 分类号： | G01N27/626 |
| 代理公司： | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人： | 高璀璀 |
| 地址： | 200245 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种低残留膜进样装置，涉及质谱仪进样分析技术领域，该方法包括：气体进样室、进样密封圈、膜、气体缓冲室、加热丝、质谱侧密封圈、保温套筒、采样泵以及质谱电离室；其中，进样密封圈安装在气体进样室内；膜的一端与气体进样室紧密贴合，另一端与气体缓冲室紧密贴合；所述加热丝缠绕于气体缓冲室；所述质谱侧密封圈，安装于所述气体缓冲室与质谱电离室之间；所述保温套筒，安装于所述气体缓冲室外壁；所述采样泵与所述气体进样室连接。本发明能够提高了对痕量有机物的富集，降低痕量有机物在管路内壁的吸附，有效解决有机物检测时谱峰易出现的拖尾现象。 | ||
| 搜索关键词： | 残留 膜进样 装置 | ||
【主权项】：
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