[发明专利]一种电光传感器静态偏置点工艺校正的方法和电光传感器在审

专利信息
申请号: 202111574849.6 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114460378A 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 马昕雨;牟星;庄池杰;曾嵘;唐建石;高滨;钱鹤;吴华强 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01R29/08 分类号: G01R29/08
代理公司: 北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11594 代理人: 张迎新;史光伟
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种电光传感器静态偏置点工艺校正的方法和电光传感器,电光传感器静态偏置点工艺校正的方法,包括以下步骤:测量电光传感器的静态偏置点与π/2的偏差;调节光波导的有效折射率,使所述电光传感器的静态偏置点达到π/2。本发明通过在过渡族金属氧化物阻变材料两侧施加外电压,调节其介电常数,从而改变光波导的有效折射率,使静态偏置点达到π/2,校正电光传感器制作中难以避免的工艺误差;外电压在调节完成后会被撤掉,过渡族金属氧化物阻变材料介电常数不变,从而光波导的有效折射率保持不变,所以该技术是无源的;过渡族金属氧化物阻变材料具有连续光调节功能,在不同电压激励下连续改变介电常数,满足不同应用需求。
搜索关键词: 一种 电光 传感器 静态 偏置 工艺 校正 方法
【主权项】:
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