[发明专利]一种基于矢量光场调控的纳米级光钳成像装置及方法在审

专利信息
申请号: 202111572794.5 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114217452A 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 王玲玉;代娓;曲龙嘉;高秀敏;高梓恒 申请(专利权)人: 鑫海合星科技(大连)有限公司
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G02B19/00;G02B27/00;G02F1/01
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 李猛
地址: 116000 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种基于矢量光场调控的纳米级光钳成像装置及方法,属于光电子技术领域。所述的激光光源1的一侧依次设有起偏器2、第一透镜3、第二透镜4、滤光片5、第三透镜6、第四透镜7、分束器8;所述的分束器8的一侧出口设有反射式纯相位空间光调制器9,所述的分束器8的另一侧出口依次设有第五透镜10、第六透镜11、反射镜12、m阶涡旋偏振器13、滤光片14、偏振器15、滤光片16和CCD相机17;所述的CCD相机17与图像采集系统18连接。有益效果:本文所述装置优势明显:体积小,灵敏度高,稳定性好,可靠性强,应用领域更广泛。
搜索关键词: 一种 基于 矢量 调控 纳米 级光钳 成像 装置 方法
【主权项】:
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