[发明专利]光学系统公差分析方法有效
| 申请号： | 202111553622.3 | 申请日： | 2021-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN114326098B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 吴洪波;张新;张建萍;王灵杰;史广维;赵尚男;付强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人： | 郭婷 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学系统公差分析方法，包括以下步骤：S1、计算光学系统的PSF椭率；S2、根据PSF椭率对公差灵敏度进行分析，并完成公差分配；S3、生成M个含公差的光学系统随机样本；S4、分别计算每个随机样本中N个特征视场的PSF椭率，获得M×N个PSF椭率的计算结果；S5、对M个样本通过统计方法计算N个视场的PSF椭率的变化量；S6、根据所述PSF椭率的变化量对成像稳定性公差进行评价。本发明构建的基于PSF椭率样本统计的公差分配评价方法，实现了基于PSF椭率的光学系统公差分析和分配，提高了光学系统公差分配精度和准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 公差 分析 方法 | ||
【主权项】：
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