[发明专利]基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统在审
| 申请号： | 202111528094.6 | 申请日： | 2021-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN114326322A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;魏震;杨顺华;蒋登斌;丁晨良;刘旭;徐良;朱大钊;张凌民 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/10;G02B3/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统。该系统使用一片包括m×m个镜元的微透镜阵列产生m×m束并行光束，结合紫外飞秒激光器、四光束分束器、DMD、合束器、平板光束位移元件、透镜、物镜搭建而成的光路在物镜焦平面上形成2m×2m个焦点点阵分布，将基于微透镜阵列和DMD的激光直写通量提高到原来的4倍，大幅提高直写速度，且每个焦点可由DMD独立调节光强，从而结合直写算法实现任意图形的并行超分辨激光直写。本发明可应用于微透镜阵列、衍射光学元件、光刻掩模板等的快速加工制造。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 透镜 阵列 dmd 通量 分辨 激光 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于之江实验室;浙江大学，未经之江实验室;浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111528094.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种鉴别山乌桕蜂蜜真实性的方法
- 下一篇：一种数字乡村建设管理服务装置
