[发明专利]在AFM-IR监测下用二氯甲烷/甲醇混合溶剂去除铜箔表面痕量杂质的方法在审
| 申请号： | 202111513671.4 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN114200164A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 王勇;薛奇;李林玲;滕超;章晨 | 申请（专利权）人： | 深圳职业技术学院;南京大学 |
| 主分类号： | G01Q60/24 | 分类号： | G01Q60/24;G01N21/3563;G01N1/30;G01N1/34;G01N1/44 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了在AFM‑IR监测下用二氯甲烷/甲醇混合溶剂去除铜箔表面痕量杂质的方法，该方法具有杂质去除效率高的优点。通过具有超高灵敏度的AFM‑IR检测技术对洗涤前后高频高速印刷电路板(PCB)用铜箔表面吸附杂质的相对含量进行表征，本发明可去除铜箔表面约95％的有机杂质。 | ||
| 搜索关键词： | afm ir 监测 二氯甲烷 甲醇 混合 溶剂 去除 铜箔 表面 痕量 杂质 方法 | ||
【主权项】：
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