[发明专利]一种铁电晶体的化学反应式薄膜剥离方法在审

专利信息
申请号: 202111500773.2 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114164497A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 王智勇;黄瑞;兰天 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C30B33/00 分类号: C30B33/00;C23C14/48;C30B29/14;C30B29/32;C30B29/30
代理公司: 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 代理人: 林聪源
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种铁电晶体的化学反应式薄膜剥离方法,包括:在硅衬底A表面制备一层SiO2层;在铁电晶体衬底B表面制备一层钝化层,向铁电晶体衬底B中注入两种可发生化学反应且注入深度一致的元素离子,在铁电晶体衬底B形成离子注入层;去除铁电晶体衬底B表面的钝化层,并对硅衬底A和铁电晶体衬底B进行抛光、活化以及晶圆键合;对复合晶圆加热,使铁电晶体衬底B内部的两种元素离子发生化学反应,使铁电晶体衬底B在离子注入层处发生分离;对保留的铁电晶体薄膜进行抛光,完成薄膜剥离。本发明通过向铁电晶体材料中分别注入两种不同元素,利用这两种元素在晶体材料内部相互之间发生化学反应生成气体的方式,使得铁电晶体材料发生剥离。
搜索关键词: 一种 电晶体 化学反应式 薄膜 剥离 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111500773.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top