[发明专利]连续式低羟基高均匀性石英玻璃的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111498866.6 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114031274A 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 陈峰;沈一春;钱宜刚;汤明明;丁杰;陈燕琳;马俊逸 申请(专利权)人: 中天科技精密材料有限公司;江苏中天科技股份有限公司
主分类号: C03B20/00 分类号: C03B20/00;C03B19/06
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 饶智彬
地址: 226009 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请提供一种连续式低羟基高均匀性石英玻璃的制备方法,包括如下步骤:将二氧化硅疏松体置于一烧结炉中;使所述烧结炉升温至第一温度,向所述烧结炉中通入脱羟气体,以使二氧化硅疏松体中掺杂的羟基与脱羟气体中包含的卤族元素发生反应以脱去羟基;使所述烧结炉继续升温至第二温度,向所述烧结炉中继续通入保护气体,去除脱羟气体中包含的卤族元素;使所述烧结炉继续升温至玻璃化温度,使二氧化硅疏松体玻璃化形成石英;使所述烧结炉降温,并使所述石英降温至完成玻璃化。
搜索关键词: 连续 羟基 均匀 石英玻璃 制备 方法
【主权项】:
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