[发明专利]用于监测激光加工头上的盖玻片的污染物的感测布置在审

专利信息
申请号: 202111485776.3 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114603268A 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 丹尼·禅 申请(专利权)人: II-VI特拉华有限公司
主分类号: B23K26/70 分类号: B23K26/70
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 郭浩
地址: 美国特*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种感测设备监测激光加工头上的盖光学器件的污染物,从而指示需要更换所述盖光学器件。所述设备包括至少一个反射器和至少一个传感器,所述至少一个反射器和至少一个传感器设置在所述加工头中邻近所述盖光学器件的周边。所述反射器反射来自所述激光束的辐射,所述激光束从所述盖光学器件上的污染物偏转并且入射到其上。所述传感器偏离所述反射器并且检测由所述反射器反射的所述辐射的至少一部分。与所述传感器通信的控制器可基于所检测到的辐射来确定所述盖光学器件上的所述污染物。
搜索关键词: 用于 监测 激光 工头 盖玻片 污染物 布置
【主权项】:
暂无信息
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