[发明专利]一种压阻式角度反馈传感器MOEMS微镜制备方法在审
| 申请号： | 202111479935.9 | 申请日： | 2021-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN114132893A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 何凯旋;刘磊;吕东锋;郭立建;张胜兵 | 申请（专利权）人： | 华东光电集成器件研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 | 代理人： | 杨晋弘 |
| 地址： | 233030 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种压阻式角度反馈传感器MOEMS微镜制备方法，它包括以下步骤：（1）衬底层制作，（2）SOI层制作，（3）键合晶圆制作。本发明可实现静电驱动微镜与介质隔离压阻式反馈传感器集成制造，可以将压敏电阻的漏电流降低到几个nA量级以下，大幅提高角度检测传感器稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 压阻式 角度 反馈 传感器 moems 制备 方法 | ||
【主权项】：
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