[发明专利]一种金刚石晶体的高结合力光学薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202111476850.5 | 申请日： | 2021-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN114318216A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 薄勇;申玉;袁磊;徐健;彭钦军;江南;易剑;袁其龙 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所;中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 陈超 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金刚石晶体的高结合力光学薄膜及其制备方法，该金刚石晶体的高结合力光学薄膜的制备方法包括：将金刚石晶体置于真空腔室内，并使金刚石晶体的表面达到预设温度，预设温度为200℃～1000℃；在金刚石晶体的表面平铺硅层，形成膜系结构，在膜系结构中，硅层与金刚石晶体相接触的界面处形成碳化硅层；在膜系结构的表面上镀目标膜层，形成金刚石晶体的高结合力光学薄膜。本发明实施例提供的金刚石晶体的高结合力光学薄膜及其制备方法，可将膜系结合力由范德华力变为化学键结合力，提高膜系表面结合力，提高膜系稳定性、抗损伤能力，缓解易脱落的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金刚石 晶体 结合 光学薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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