[发明专利]一种磁控溅射Low-E膜在审
| 申请号： | 202111451810.5 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114045124A | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 卢尔本 | 申请（专利权）人： | 上海尚傲新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/50 | 分类号： | C09J7/50;C09J7/29;C23C14/00;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/20;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 | 代理人： | 张佑富 |
| 地址： | 200000 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射Low‑E膜，涉及膜材料领域。本发明包括基膜层、剥离层、防刮层，通过剥离层剥离后由安装胶层与玻璃表面相贴进行贴膜；基膜与复合胶之间依次设置有热反射镀膜层、Low‑E镀膜层；Low‑E镀膜层采用至少一层镀银的方式形成具有较低辐射率的膜层；热反射镀膜层采用磁控溅射的方法镀至少一层金属化合物薄膜；由各层相互复合形成具有高透型、遮阳型或双银低辐射型的磁控溅射Low‑E膜。本发明能够根据需要获取高透光性、高遮阳性、低辐射透过性或者高可见光透过性及低太阳能透过率的性能，大大提高了膜使用的效率，综合效能由于普通的热反射镀膜玻璃；相对于现有的Low‑E玻璃更方便实用，便捷高效。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 low | ||
【主权项】：
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