[发明专利]一种单片集成的基于薄膜铌酸锂的分束调制芯片在审
申请号: | 202111373916.8 | 申请日: | 2021-11-19 |
公开(公告)号: | CN114063212A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 陶诗琦;孙昊骋 | 申请(专利权)人: | 上海安湃芯研科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 201803 上海市嘉定区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请公开了一种单片集成的基于薄膜铌酸锂的分束调制芯片,其特征在于,包括基底层、下包层、波导芯层、金属层和上包层;基底层、下包层和波导芯层自下而上连接,上包层位于波导芯层上方,金属层位于波导芯层中波导的两侧,并穿过上包层连接波导芯层和外界空气;基底层用作芯片支撑,下包层用作为波导芯层提供高折射率对比度,金属层用作电光调制或吸收杂散光,上包层用作保护所述波导芯层;波导芯层集成有分束调制芯片,用于对光源进行分束调制,波导芯层为薄膜铌酸锂。本申请在薄膜铌酸锂材料上实现了高集成度、小型化和低成本的分束调制芯片,同时确保了系统的高稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 单片 集成 基于 薄膜 铌酸锂 调制 芯片 | ||
【主权项】:
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