[发明专利]无限制像方场分布的表征方法有效
| 申请号： | 202111371574.6 | 申请日： | 2021-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN114019677B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 陈涛;金思宇;余毅;刘英;陈小林;王成龙;张晓宁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人： | 陈新英 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供无限制像方场分布的表征方法，用以计算包括孔径光阑和傅里叶透镜的光学系统的光强分布，光学系统的光线依次经过孔径光阑，通过傅里叶透镜达到焦平面和离焦面，计算方法包括如下步骤：计算孔径光阑面平面场分布的复振幅透过率；计算待测离焦面处的离焦因子；频域内计算复振幅透过率与离焦因子的傅里叶变换；计算待测离焦面的光强分布。在给定系统焦距、工作波长条件下，通过本发明中采用的像方弥散分布表征方法，即可求出任意形状、任意离轴量下的孔径光阑在任意离焦面的光强分布，从而分析任意孔径光阑，在任意离焦面下的强度变化情况。 | ||
| 搜索关键词： | 无限制 像方场 分布 表征 方法 | ||
【主权项】：
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