[发明专利]一种改善晶圆显影中光刻胶漂胶的方法在审

专利信息
申请号: 202111368347.8 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN116136651A 公开(公告)日: 2023-05-19
发明(设计)人: 吴沛飞;赵万利;葛欢 申请(专利权)人: 全球能源互联网研究院有限公司;国家电网有限公司;国网安徽省电力有限公司电力科学研究院
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;G03F7/40;G03F7/20
代理公司: 北京安博达知识产权代理有限公司 11271 代理人: 徐国文
地址: 102209 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种改善晶圆显影中光刻胶漂胶的方法,包括下列步骤:(1)将晶圆置于HMDS气氛的烘箱中,在晶圆表面形成厚度为5~30纳米的HMDS粘膜用作为光刻胶增粘剂;(2)在晶圆表面已形成的所述HMDS粘膜上面旋涂光刻胶薄膜,然后烘干固化;(3)用步进扫描式I线光刻机对光刻胶薄膜进行曝光;(4)对晶圆表面旋转水洗、将显影液旋转式布满光刻薄膜表面且予以浸泡、旋转甩去显影液、再次旋转水洗;重复执行步骤(1)和(4)。
搜索关键词: 一种 改善 显影 光刻 胶漂胶 方法
【主权项】:
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