[发明专利]一种改善晶圆显影中光刻胶漂胶的方法在审
申请号: | 202111368347.8 | 申请日: | 2021-11-18 |
公开(公告)号: | CN116136651A | 公开(公告)日: | 2023-05-19 |
发明(设计)人: | 吴沛飞;赵万利;葛欢 | 申请(专利权)人: | 全球能源互联网研究院有限公司;国家电网有限公司;国网安徽省电力有限公司电力科学研究院 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30;G03F7/40;G03F7/20 |
代理公司: | 北京安博达知识产权代理有限公司 11271 | 代理人: | 徐国文 |
地址: | 102209 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种改善晶圆显影中光刻胶漂胶的方法,包括下列步骤:(1)将晶圆置于HMDS气氛的烘箱中,在晶圆表面形成厚度为5~30纳米的HMDS粘膜用作为光刻胶增粘剂;(2)在晶圆表面已形成的所述HMDS粘膜上面旋涂光刻胶薄膜,然后烘干固化;(3)用步进扫描式I线光刻机对光刻胶薄膜进行曝光;(4)对晶圆表面旋转水洗、将显影液旋转式布满光刻薄膜表面且予以浸泡、旋转甩去显影液、再次旋转水洗;重复执行步骤(1)和(4)。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 显影 光刻 胶漂胶 方法 | ||
【主权项】:
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