[发明专利]基于光电材料修饰的光能/渗透能集成的仿生纳流体器件有效

专利信息
申请号: 202111356056.7 申请日: 2021-11-16
公开(公告)号: CN114094874B 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 范霞;张亮倩 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H02N11/00 分类号: H02N11/00;H02N3/00;F03G7/00;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 崔自京
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了基于光电材料修饰的光能/渗透能集成的仿生纳流体器件,属于仿生纳流体器件技术领域;基于光电材料修饰的光能/渗透能集成的膜材料包括子弹型氧化铝纳米通道膜和无机氧化物纳米层;子弹型氧化铝纳米通道膜上具有多个子弹型纳米通道,子弹型纳米通道的两端分别为大孔端和小孔端,多个子弹型纳米通道的大孔端位于子弹型氧化铝纳米通道膜的同一侧;无机氧化物纳米层覆合于子弹型氧化铝纳米通道膜具有大孔端的一侧,由硅烷偶联剂改性的无机氧化物纳米颗粒制成。并且公开了膜材料的制备方法。基于本发明膜材料制备的仿生纳流体器件具有高离子通量和较好的离子选择性,在能量转换应用中表现出较高的渗透能量转换性能。
搜索关键词: 基于 光电 材料 修饰 光能 渗透 集成 仿生 流体 器件
【主权项】:
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