[发明专利]一种用于极紫外光刻光源中喷嘴的清洗装置与方法在审
| 申请号： | 202111342506.7 | 申请日： | 2021-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN114137800A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 孙海轶;王成;王关德;李学红;邹家杰;彭凯伦;王天泽;冷雨欣 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于极紫外(EUV)光刻光源中喷嘴的清洗装置，包括：供清洗液放置的清洗罐和清洗皿，管道、过滤器、第一阀门、气压控制装置、气瓶、第二阀门和负压泵；采用超纯水或者易挥发的清洁液体清洗喷嘴，清洗过程采用正压和负压相结合的方式，使得喷嘴内的污染物倒吸到清洗罐中。本发明安装方便，易于操作，适用于EUV光刻光源中微小喷嘴的前期清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 紫外 光刻 光源 喷嘴 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
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