[发明专利]一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置有效
申请号: | 202111248661.2 | 申请日: | 2021-10-26 |
公开(公告)号: | CN113909698B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 匡翠方;王洪庆;王子昂;杨臻垚;汤孟博;詹兰馨;张晓依;温积森;刘旭 | 申请(专利权)人: | 之江实验室;浙江大学 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/082;B23K26/064 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
地址: | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法,包括步骤:1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑;2)基于多通道声光调制器输出刻写波形,首先只输出第N |
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搜索关键词: | 一种 并行 穿插 高速 激光 光刻 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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