[发明专利]一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置有效

专利信息
申请号: 202111248661.2 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN113909698B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 匡翠方;王洪庆;王子昂;杨臻垚;汤孟博;詹兰馨;张晓依;温积森;刘旭 申请(专利权)人: 之江实验室;浙江大学
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/082;B23K26/064
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310023 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法,包括步骤:1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑;2)基于多通道声光调制器输出刻写波形,首先只输出第Nbeams束光的刻写波形;3)经过n次扫描后开始输出第Nveams‑1束光的刻写波形;4)再经过n次扫描后开始输出第Nbeams‑2束光的刻写波形;5)重复步骤3)‑4)直到所有光束波形都开始输出。本发明装置基于并行穿插扫描策略,有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。
搜索关键词: 一种 并行 穿插 高速 激光 光刻 方法 装置
【主权项】:
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