[发明专利]一种光刻胶在ArF干法光刻中的应用在审
| 申请号： | 202111245427.4 | 申请日： | 2021-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN116027632A | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 王溯;方书农;徐森;林逸鸣 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C08F220/18;C08F230/08;C08F232/08;C08F220/20 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 马续红;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶在ArF干法光刻中的应用。该应用中光刻胶组合物由下述原料制得，所述的原料包括如下以重量份数计的组分：75‑95份的树脂、1.0‑10份的光产酸剂、1000‑2000份的溶剂、0.5‑3.0份的淬灭剂和表面活性剂。含有本发明的树脂的光刻胶具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 arf 中的 应用 | ||
【主权项】：
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