[发明专利]一种中高气压微波等离子体射流热处理/制备高纯材料的方法与装置有效
| 申请号： | 202111181127.4 | 申请日： | 2021-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN113861486B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 陈龙威;卫新宇;林启富;张文瑾;夏许露;丁军;李建刚 | 申请（专利权）人： | 合肥综合性国家科学中心能源研究院（安徽省能源实验室） |
| 主分类号： | C08J7/18 | 分类号： | C08J7/18;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 李晓莉 |
| 地址： | 230000 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了中高气压微波等离子体射流热处理/制备高纯材料的方法与装置，所述的微波等离子体射流装置包括：微波源系统、波传输系统、进气系统、等离子体反应区、收集系统、真空系统；待处理材料从旋气头排出时即面对渐变波导中传输的微波，等离子体的化学作用和热作用对待处理材料或气体进行处理；本发明提供的这种中高气压微波等离子体射流的产生方法和装置增加了温区可控的热等离子体区域的范围和可控性，降低了等离子体弧源的产生难度，提高了可行性和灵活性。本发明涉及的方法和装置满足气压范围宽、温度范围宽、处理材料种类范围宽，并可用于远程等离子体实施材料表面处理技术。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 中高 气压 微波 等离子体 射流 热处理 制备 高纯 材料 方法 装置 | ||
【主权项】：
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