[发明专利]两性离子-氧化石墨烯薄膜及其在CO2 在审
| 申请号： | 202111180446.3 | 申请日： | 2021-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN114042385A | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李奕帆;闫志昆;马莹莹 | 申请（专利权）人： | 郑州大学 |
| 主分类号： | B01D71/68 | 分类号： | B01D71/68;B01D69/02;B01D67/00;B01D53/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 450001 河南省郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： |
本发明属于气体分离膜技术领域，特别涉及一种两性离子‑氧化石墨烯薄膜的制备以及在气体分离领域的应用。所述薄膜由氧化石墨烯、两性离子、添加剂A或添加剂B组成，其制备方法包括如下过程：(1)配制氧化石墨烯、两性离子以及添加剂A的混合液；(2)将该混合液加入以多孔支撑膜为滤膜的过滤装置；(3)将过滤装置在摇床上振荡处理；(4)停止振荡，真空抽滤；(5)对膜进行热处理。或在第(1)步配制氧化石墨烯、两性离子的混合液，并在第(4)步抽滤后继续将添加剂B的前驱体溶液加入过滤装置进行二次抽滤。本发明的优点包括：制备简单，条件温和，制得的膜具有优异的CO |
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| 搜索关键词： | 两性 离子 氧化 石墨 薄膜 及其 co base sub | ||
【主权项】：
暂无信息
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