[发明专利]生成补偿器的方法在审
| 申请号： | 202111170050.0 | 申请日： | 2021-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN113777690A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 张云雪;宋丹;何玉国;张钱依;黄安琳 | 申请（专利权）人： | 宁波市知行光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/32 | 分类号： | G02B5/32 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 衡滔 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种生成补偿器的方法，涉及光学的技术领域，本申请的生成补偿器的方法，包括在基底上进行镀膜，形成辅助膜层；在辅助膜层上进行涂胶、曝光和显影，形成原始图案；采用预设气体刻蚀显影后的辅助膜层，并在刻蚀到达基底时，继续刻蚀预设时间段后，停止刻蚀，生成计算全息图；其中，基底的材料与辅助膜层的材料不同，预设气体在基底上的刻蚀速率与在辅助膜层上的刻蚀速率不同。故本申请通过在基底上增加辅助膜层，避免了在离子刻蚀过程中，由于刻蚀腔内不同区域离子浓度不同和其它刻蚀参数不同而导致的刻蚀速率不同，进一步避免了由于不同区域的刻蚀深度不均匀，而影响计算全息图的波前精度。 | ||
| 搜索关键词： | 生成 补偿 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波市知行光学科技有限公司，未经宁波市知行光学科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111170050.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
