[发明专利]一种微米线宽深硅沟槽的光学测量系统与方法在审
| 申请号： | 202111170009.3 | 申请日： | 2021-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN113932709A | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 胡春光;武飞宇;霍树春;王子政;沈万福;刘晶;胡晓东 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/22 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 李素兰 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明一种微米线宽深硅沟槽的光学测量系统与方法，包括光源模块(100)、分光模块(200)、科勒照明模块(300)、临界光束模块(400)、样品台(500)、显微图像采集模块(600)和复色光谱采集模块(700)；所述光源模块(100)输出复色宽谱准直光束，所述分光模块(200)将准直光束分别导入科勒照明模块(300)和临界光束模块(400)，共同照明样品台(500)上的待测样品；所述样品台(500)控制待测样品的显微对焦与测量区域；采集显微图像和反射光谱并传送给计算机，利用计算机软件解算沟槽深度和关键尺寸。与现有技术相比，本发明在显微与光谱测量时使用不同照明光波段，优化了光源效率；控制临界光束孔径角提高了沟槽深宽比测量能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微米 线宽深硅 沟槽 光学 测量 系统 方法 | ||
【主权项】：
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