[发明专利]一种锆合金表面致密高耐蚀微弧氧化膜层的制备方法在审
| 申请号： | 202111149162.8 | 申请日： | 2021-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN113774459A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 董帅;刘磊;董杰 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C25D11/26 | 分类号： | C25D11/26 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人： | 周一新 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种锆合金表面致密高耐蚀微弧氧化膜层的制备方法，属于金属表面处理技术领域。该制备方法中微弧氧化处理采用的脉冲频率为10000–30000Hz，通过增加脉冲频率使微弧氧化电流形成针尖效应，降低锆合金微弧氧化膜的微孔尺寸，有效地改善膜层的致密性，从而很大程度上提高膜层的耐腐蚀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 合金 表面 致密 高耐蚀微弧 氧化 制备 方法 | ||
【主权项】：
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