[发明专利]一种高稳定的自连结MXene纳米片及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202111114668.5 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113800521A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 黄逸凡;高明;江敏;谢晋兴;万志颖;梅婷婷 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: C01B32/921 分类号: C01B32/921;C01B32/914;C01B32/949;A61N1/05
代理公司: 北京市诚辉律师事务所 11430 代理人: 范盈;李玉娜
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种高稳定的自连结MXene纳米片及其制备方法和应用,具体提供了一种表面改性的MXene纳米片,所述MXene纳米片中具有Na离子和磺酸插层,同时表面还具有聚多巴胺层和聚乙烯二氧噻吩层;所述聚多巴胺层和聚乙烯二氧噻吩层依次设置;具体地,先在具有Na离子和磺酸插层的MXene纳米片表面聚合聚多巴胺层,然后再原位聚合聚乙烯二氧噻吩层。本发明的MXene纳米片各种修饰之间相互作用,同时强化了MXene纳米片在生物体内的物理化学稳定性、成膜能力、生物相容性等多种性质,因此其能够作为电极修饰材料、外周神经的细胞修复材料、神经电极的导线、中枢神经电极的位点等。
搜索关键词: 一种 稳定 连结 mxene 纳米 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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