[发明专利]通过旋转或振动光源来改善用于微纳成型的光照均匀度的方法在审
| 申请号： | 202111065001.0 | 申请日： | 2021-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN113835304A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 卫荣汉;许雁雅 | 申请（专利权）人： | 中工（湖州）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 郑州亦鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 41188 | 代理人： | 张夏谦 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市市辖*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，可应用于微纳加工领域中的光刻机上。包括用于微纳成型的光源系统由多组点光源阵列构成；将用于微纳成型的光照对象放置于隔绝振动的平台上；在微纳成型的过程中，对光源系统施加振动或旋转的运作方式，来改善照射于光照对象上的光照均匀度问题。本发明通过对光源系统施加振动或旋转的运作方式，改善光照对象的光照均匀度，可适用于多种类型的点光源阵列组成的光源系统。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 旋转 振动 光源 改善 用于 成型 光照 均匀 方法 | ||
【主权项】：
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