[发明专利]直接还原用原料、直接还原用原料的制造方法和还原铁的制造方法有效
| 申请号： | 202111054231.7 | 申请日： | 2014-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN113699299B | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 水谷守利;西村恒久 | 申请（专利权）人： | 日本制铁株式会社 |
| 主分类号： | C21B13/02 | 分类号： | C21B13/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 杨光军;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种直接还原用原料，其在竖炉中被还原气体还原，其特征在于，具备原料和被覆层，所述被覆层被覆所述原料的周围并且具有多孔结构，装入所述竖炉前的所述被覆层的气孔率为20体积％以上，并且所述被覆层不含有氢氧化物，包含Ca的氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 直接 还原 原料 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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