[发明专利]曝光系统及曝光方法在审
| 申请号： | 202111041952.4 | 申请日： | 2021-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN113759672A | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 汪杰;杨莉 | 申请（专利权）人： | 昆山龙腾光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 215301 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种曝光系统，包括光源组件、半透镜、全反射镜、弧形镜组、掩膜板和透镜组，光源组件发出的光依次经过半透镜、弧形镜组、掩膜板、透镜组后进行第一次曝光，全反射镜与半透镜相对设置，半透镜可将光反射至全反射镜，全反射镜反射的光实现第二次曝光。本发明的曝光系统能提高图像线宽关键尺寸的均一性，提升了产品良率。本发明还涉及一种曝光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 方法 | ||
【主权项】：
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