[发明专利]一种用于LCD和AMOLED干刻下部电极的再生工艺

摘要

本发明公开了一种用于LCD和AMOLED干刻下部电极的再生工艺，包括以下步骤：S11，将需要再生的电极从干刻设备中拆卸下来；S12，去除电极表面原有陶瓷涂层的表层部分；S13，用遮蔽材料对电极背面和侧面进行遮蔽；S14，对电极表面进行喷砂；S15，用热喷涂方法在电极表面覆上一层陶瓷涂层；S16，完成喷涂后去除S13中的遮蔽材料；S17，对喷涂的陶瓷涂层进行封孔；S18，对电极表面进行加工，使所述电极表面四周形成一个凸起；S19，将电极与干刻设备重新组装。通过本发明中所描述的工艺再生后的干刻下部电极，其表面陶瓷层的绝缘性、致密性、硬度等性能与新品一致，再生后使用寿命可延长至6个月左右，且可重复再生，可显著降低面板厂家采购新品电极的频率，降低其成本。