[发明专利]一种研磨盘及基板清洁装置有效
| 申请号： | 202110965606.9 | 申请日： | 2021-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN113714928B | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 马泽浩;沈海洋 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/12;B24B37/14;B24B27/033 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨瑞 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请提供一种研磨盘和基板清洁装置，该研磨盘包括厚度自适应层以及固定于所述厚度自适应层两个相背对两个表面的基底层及研磨片，所述基底层连接于研磨头，所述研磨片与产品接触以对产品进行研磨清洁，所述厚度自适应层能基于研磨盘施加于待清洁的产品上的压力产生形变以能使所述研磨盘与待清洁的产品表面完全接触，从而研磨盘的清洁面积能达到100％，能提升产品的清洁良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 清洁 装置 | ||
【主权项】：
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