[发明专利]一种非制冷热红外焦平面器件以及红外成像设备有效

专利信息
申请号: 202110939619.9 申请日: 2021-08-16
公开(公告)号: CN113660433B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 赖建军;卢秉昱;杨静 申请(专利权)人: 华中科技大学鄂州工业技术研究院;华中科技大学
主分类号: H04N23/11 分类号: H04N23/11;H04N25/60;H04N25/70
代理公司: 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 代理人: 张晓冬
地址: 436044 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请提供了一种非制冷热红外焦平面器件以及红外成像设备,用于在一定程度上减少非制冷热红外焦平面器件存在的电路读出噪声。本申请提供的非制冷热红外焦平面器件的器件结构,由于采用的暗场散射光读出机制,因此具有更低的噪声以及更高的灵敏度;其次,由于采用光学角度滤波板,反射LED阵列发射的大角度范围光及透射来自热光像素阵列表面纳米粒子的小角度散射光,形成波导式照明和散射光透射的复合功能,在照明结构上具有多芯片集成特征,更为紧凑;此外,由于阵列成像板在具有超薄特性的基础上,还存在多个的成像通道,促使成像光学系统的厚度以及体积得到了有效的降低。
搜索关键词: 一种 制冷 红外 平面 器件 以及 成像 设备
【主权项】:
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