[发明专利]一种非线性反饱和吸收CuAlO2

摘要

本发明公开了一种非线性反饱和吸收CuAlO2薄膜制备方法，该发明属于薄膜非线性光学技术领域。该发明采用磁控反应薄膜沉积技术，通过控制薄膜沉积参数实现CuAlO2薄膜非线性反饱和吸收的效果，具体是指将洁净的基片放置在镀膜夹具后，利用磁控溅射法沉积CuAlO2薄膜，控制薄膜沉积过程中氧分压比例在10％‑70％之间，膜层厚度范围20‑300nm。通过Z扫描的方法测试CuAlO2薄膜的非线性光学特性。根据本发明的方法制备的CuAlO2薄膜性能优异，能够应用于吸收型光开关或吸收型光双稳器件等领域。另外，本发明关于一种非线性反饱和吸收CuAlO2薄膜的制备方法操作简单，制备周期短，成本低，效果显著。