[发明专利]基于涡旋光场干涉的纳米位移测量方法及系统在审
| 申请号： | 202110889137.7 | 申请日： | 2021-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN113607063A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 孙喜博;耿远超;马文静;张颖;黄晚晴;刘兰琴;王文义;胡东霞;邓学伟;袁晓东;袁强 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 于晶晶 |
| 地址： | 621999*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及基于涡旋光场干涉的纳米位移测量方法及系统，属于精密测量技术领域，将涡旋光束与激光干涉相结合，通过利用干涉图样的旋转角度变化，将连续位移转换为连续的旋转角度变化，获得被测位移，相较于普通高斯光干涉条纹计数的方法，无需将小数部分数值单独进行考虑，解决了现有技术中干涉条纹小数部分数值估读对测量精度的影响，无需增加细分元件，具有螺旋相位的圆偏振光束自身实现了更高的细分倍数，同时，将干涉图像电子细分处理方法变为圆周角度细分，具有360°自然基准，从原理上提高了测量精度，此外，采用圆偏振差分光路，消除了参考光路不稳定性对测量结果带来的误差，进一步提高了测量准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 涡旋 干涉 纳米 位移 测量方法 系统 | ||
【主权项】：
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