[发明专利]一种用于中低原子序数物质的μ子成像方法有效

专利信息
申请号: 202110880685.3 申请日: 2021-08-02
公开(公告)号: CN113576504B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 王晓冬;季选韬;魏鑫 申请(专利权)人: 南华大学
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/02;G01N23/044
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 张珉瑞
地址: 421001 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种用于中低原子序数物质的μ子成像方法,包括如下步骤:S1、获取所有重建μ子径迹与若干个给定数学平面的交点的坐标;S2、将各交点的坐标取整后赋予给对应的体素;S3、统计每个体素的交点数量;S4、筛选出交点数量大于预设阈值的体素;S5、将筛选后的体素成像,得到待成像物体的图像。由于采用了上述技术方案,与现有技术相比,本发明通过计算重建μ子径迹与给定数学平面的交点坐标,再根据交点的密集程度将待成像物体断层成像。本发明提供的方法对μ子径迹探测器的灵敏面积要求不高,且没有采用迭代的思想,可以通过设定阈值排除掉偶然符合产生的错误信息,从而更好地实现对厘米级物体的成像。
搜索关键词: 一种 用于 原子序数 物质 成像 方法
【主权项】:
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