[发明专利]一种提高铜片氧化层均匀性的氧化炉有效
| 申请号： | 202110871999.7 | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN113606935B | 公开（公告）日： | 2023-08-04 |
| 发明（设计）人： | 许海仙;张振文;张洋;史常东 | 申请（专利权）人： | 合肥圣达电子科技实业有限公司 |
| 主分类号： | F27B9/24 | 分类号： | F27B9/24;F27B9/30;F27B9/36;F27B9/38;F27B9/40 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 谢中用 |
| 地址： | 230088 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明陶瓷覆铜板技术领域，公开了一种提高铜片氧化层均匀性的氧化炉，包括：炉体，包括分别设置在炉体两端的进料口和出料口，进料口和出料口处设置有密封气帘；传送带，用于输送铜片，由进料口到出料口贯穿炉体；多个热电偶，正对传送带安装在炉体内，且沿传送带输送方向依次排布；供氧管道；多个弥散气盒，沿传送带输送方向在炉体内排布，分别与供氧管道连通且在连通处设置有用于控制炉体内气体浓度、流速、流向的气阀；测温热电偶和测氧仪，设置在弥散气盒靠近传送带的一侧；保证了铜片氧化环境的稳定，使铜片表面氧化膜厚度均一。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 铜片 氧化 均匀 | ||
【主权项】：
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