[发明专利]基于LCD技术的曝光工艺以及UV光刻机在审
| 申请号： | 202110871154.8 | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN113589658A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 刘建文 | 申请（专利权）人： | 深圳市鹏基光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙) 44411 | 代理人： | 魏秀娟 |
| 地址： | 518051 广东省深圳市南山区南头街*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种UV光刻机，所述UV光刻机包括：UV光源，所述UV光源用于产生UV光；LCD液晶透光屏，所述LCD液晶透光屏设于所述UV光源产生的UV光的光通道上，且所述LCD液晶透光屏具有像素点阵，通过调节电压可控制每一所述像素点的透光度；驱动模块，所述驱动模块可根据预先设定的图案数据控制所述LCD液晶透光屏上的像素点的透光度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 lcd 技术 曝光 工艺 以及 uv 光刻 | ||
【主权项】：
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