[发明专利]一种光谱发射率的测量方法及系统有效
申请号: | 202110777853.6 | 申请日: | 2021-07-09 |
公开(公告)号: | CN113686451B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 吴军;马建光;刘超;李大成;王安静;李扬裕;崔方晓 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院;中国人民解放军32801部队 |
主分类号: | G01J5/53 | 分类号: | G01J5/53;G01J5/08;G01J5/0802 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 林凡燕 |
地址: | 23000*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供一种光谱发射率的测量方法及系统,所述光谱发射率的测量方法包括:采用红外光源照射目标;获取所述目标的光谱辐射亮度和环境光谱辐射亮度;获取所述目标在多个温度下的黑体辐射亮度;通过所述光谱辐射亮度、所述环境光谱辐射亮度、以及多个所述黑体辐射亮度,获取多个温度下,所述目标的光谱发射率曲线;获取每个所述光谱发射率曲线的粗糙度指标,并将所述粗糙度指标最小时的对应的温度作为最佳温度;以及获取所述最佳温度时,所述目标的光谱发射率。本发明提供的光谱发射率的测量方法,能够较的精确获取目标的光谱发射率。 | ||
搜索关键词: | 一种 光谱 发射 测量方法 系统 | ||
【主权项】:
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