[发明专利]一种光谱发射率的测量方法及系统有效

专利信息
申请号: 202110777853.6 申请日: 2021-07-09
公开(公告)号: CN113686451B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 吴军;马建光;刘超;李大成;王安静;李扬裕;崔方晓 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院;中国人民解放军32801部队
主分类号: G01J5/53 分类号: G01J5/53;G01J5/08;G01J5/0802
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 林凡燕
地址: 23000*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种光谱发射率的测量方法及系统,所述光谱发射率的测量方法包括:采用红外光源照射目标;获取所述目标的光谱辐射亮度和环境光谱辐射亮度;获取所述目标在多个温度下的黑体辐射亮度;通过所述光谱辐射亮度、所述环境光谱辐射亮度、以及多个所述黑体辐射亮度,获取多个温度下,所述目标的光谱发射率曲线;获取每个所述光谱发射率曲线的粗糙度指标,并将所述粗糙度指标最小时的对应的温度作为最佳温度;以及获取所述最佳温度时,所述目标的光谱发射率。本发明提供的光谱发射率的测量方法,能够较的精确获取目标的光谱发射率。
搜索关键词: 一种 光谱 发射 测量方法 系统
【主权项】:
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